更具体地,当形成像素 20A时,采用一个掩模,而当形成像素 20B时,采用另一个掩模。
より具体的には、画素20Aを生成する場合には、一方のマスクが用いられ、画素20Bを生成する場合には、他方のマスクが用いられる。 - 中国語 特許翻訳例文集
在如图 16所示的情况中,当形成像素 20A和像素 20B时,采用两个掩模。
なお、図16に示す場合において、画素20A及び画素20Bを生成する際には、2つのマスクが用いられる。 - 中国語 特許翻訳例文集
根据本实施方式,反变换函数 FIT(11)、FIT(12)、...、以及 FIT(16)的有网点的部分代表可被应用至系数的各自的掩模 (mask)。
この実施例によれば、逆変換ファンクションFIT(11)、FIT(12)、・・・、FIT(16)の点付けの部分は、係数に適用できる各々のマスクを表す。 - 中国語 特許翻訳例文集